PERC管式鍍膜石墨舟污染異常解決方案
發(fā)布時(shí)間：2020-06-29 點(diǎn)擊次數(shù)：4504
管式鍍膜在硅片表面沉積一層氮化硅減反射膜，增強(qiáng)光的吸收與鈍化作用，鍍膜故障部分存在解決時(shí)間比較長(zhǎng)，分析困難的情況，本文將介紹管式鍍膜舟污染異常情況，期待與您共同進(jìn)步。
1.1 管式鍍膜5管膜后硅片折射率異常，現(xiàn)場(chǎng)石墨舟被污染，懷疑硅烷流量計(jì)實(shí)際流量大。
2.1 檢查5管的整管的真空情況，漏氣保壓情況均無異常，但通過現(xiàn)場(chǎng)污染情況以及折射率，流量計(jì)控制異常可能性較大；
a. 手動(dòng)測(cè)試現(xiàn)用的硅烷流量無異常，懷疑硅烷流量計(jì)實(shí)際值與顯示值偏大。b. 更換返修的硅烷流量計(jì)，手動(dòng)測(cè)試流量計(jì)無異常，但在做2-3舟正常工藝后仍出現(xiàn)膜后片子折射率異常，并且蝶閥的開度在工藝步下一舟的開度比前一舟的大。c. 再次更換新的硅烷流量計(jì)，氦檢真空管路未發(fā)現(xiàn)異常，手動(dòng)測(cè)試流量計(jì)無異常，但在做正常工藝2-3舟后出現(xiàn)膜后片子折射率異常，再次測(cè)試硅烷流量計(jì)發(fā)現(xiàn)同樣500sccm的流量，5管的壓力值比其他管明顯上升。2.3 懷疑NH3流量計(jì)異常，驗(yàn)證無異常；a. 調(diào)低硅烷流量，懷疑NH3流量計(jì)異常，導(dǎo)致實(shí)際NH3流量低造成硅烷無法完全反應(yīng)造成。b. 更換返修的氨氣流量計(jì)，手動(dòng)測(cè)試氨氣流量、壓力都正常，但在做2-3舟正常工藝后仍出現(xiàn)膜后片子折射率異常。c. 再次測(cè)試氨氣流量計(jì)發(fā)現(xiàn)氨氣流量控制不穩(wěn)，再次更換氨氣流量計(jì)，手動(dòng)測(cè)試氨氣流量、壓力都正常。d. 但在做2-3舟正常工藝后仍出現(xiàn)膜后片子折射率異常且蝶閥開度不斷增大，手動(dòng)測(cè)試氨氣流量、壓力都正常，排除氨氣流量計(jì)異常。2.4 懷疑主抽內(nèi)部漏氣、真空不足造成，驗(yàn)證無異常；a. 更換主抽，懷疑可能真空泵抽真空能力不足造成，更換返修的真空泵，測(cè)試無效。b. 與正常的工藝爐管對(duì)調(diào)主抽、蝶閥、預(yù)抽、壓力計(jì)、真空泵，正常工藝2-3舟后仍出現(xiàn)膜后片子折射率異常。c. 通過對(duì)調(diào)排除了主抽、蝶閥、預(yù)抽、壓力計(jì)、真空泵。
2.5 懷疑DPC控制箱、流量計(jì)控制信號(hào)線異常，驗(yàn)證無異常；a. 與正常管對(duì)調(diào) DPC整個(gè)控制箱、硅烷流量計(jì)控制線。b. 手動(dòng)測(cè)試硅烷流量無異常。c. 但做正常工藝，做2-3舟后仍出現(xiàn)膜后片子折射率異常。d. 通過對(duì)調(diào)排除了DPC控制箱內(nèi)的控制板，硅烷流量計(jì)控制線。
2.6 懷疑硅烷控制氣動(dòng)閥異常，結(jié)果無異常；a. 與氬氣管路對(duì)調(diào)3個(gè)氣動(dòng)閥。b. 手動(dòng)測(cè)試硅烷流量無異常。c. 做正常工藝，但做2-3舟后仍出現(xiàn)膜后片子折射率異常。a. 為測(cè)試排除其他因素影響，重新更換3個(gè)新的控制硅烷流量計(jì)的氣動(dòng)閥。b. 拆除硅烷手閥以后的管路，發(fā)現(xiàn)硅烷流量計(jì)進(jìn)氣管道的一節(jié)有很薄的一層氧化物。c. 用氣槍吹掃管路，酒精浸泡管路并用布擦拭管路內(nèi)部，清理內(nèi)部臟污。d. 為避免流量計(jì)被臟污顆粒再次污染，更換新的硅烷流量計(jì)；e. 安裝完成后，手動(dòng)測(cè)試硅烷流量計(jì)無異常。f. 做正常工藝，膜后片子折射率無異常，工藝恢復(fù)正常。
3. 結(jié)論總結(jié)
3.1針對(duì)此次異常故障，存在重復(fù)排查情況，硅烷流量計(jì)重復(fù)更換多次，耗費(fèi)時(shí)間較長(zhǎng)；
3.2測(cè)試過程中的流量計(jì)在初次測(cè)試過程中無異常，但在每次試做2-3個(gè)工藝循環(huán)后出現(xiàn)問題，問題來源管道臟污的關(guān)系較大，后期可作為流量異常的參考；
3.3如果故障一時(shí)無法判斷，可采取利用排除方法進(jìn)行硬件更換，來縮小排查范圍，提高問題處理效率；
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