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石金科技告訴你哪些因素影響管式PECVD 鍍膜的均勻性

發(fā)布時(shí)間:2020-01-09 點(diǎn)擊次數(shù):6081

經(jīng)過專業(yè)人員從鍍膜工藝參數(shù)設(shè)定、硅片制絨面反射率及石墨舟狀態(tài)3 個(gè)方面對(duì)管式PECVD 鍍膜均勻性進(jìn)行了研究,結(jié)果表明:


      1) 鍍膜過程中適當(dāng)降低腔體外層壓力,增加內(nèi)層氮硅比,降低射頻功率對(duì)片內(nèi)或片間均勻性有所改善。實(shí)驗(yàn)過程中,在保證良率的情況下,選擇外層壓力為1700 mTorr、內(nèi)層氮硅比為4.487、射頻功率為7600 W 時(shí),調(diào)節(jié)DLV 優(yōu)化石墨舟各區(qū)溫度且定期清理腔體內(nèi)部碎片可改善鍍膜均勻性。


      2) 在一定范圍內(nèi),制絨面反射率增加,膜厚增大,片內(nèi)均勻性更優(yōu)。


      3) 新石墨舟鍍膜均勻性明顯優(yōu)于舊石墨舟;在新石墨舟使用周期內(nèi),運(yùn)行30 次時(shí)片間均勻性達(dá)到最優(yōu)。

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